技術(shù)文章
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技術(shù)文章
2018-417
針對(duì)激光加工過程中普遍存在的材料碎屑對(duì)功率測(cè)量探頭污染與損壞,影響其使用壽命和測(cè)量精度的情況,Ophir專門設(shè)計(jì)了保護(hù)5000W和10KW探頭的帶有shutter的保護(hù)罩,以保護(hù)您昂貴的功率探頭免受污染。這種保護(hù)裝置可以有效的保護(hù)探頭表面的吸收層免受加工材料碎片的污染和損壞。保護(hù)罩可以在電磁操控下,隨時(shí)開啟和關(guān)閉快門。保護(hù)罩需要通過探頭前邊的法蘭和探頭連接在一起。型號(hào)5000W、10KW帶有Shutter的保護(hù)罩(a)使用保護(hù)探頭免受加工過程材料碎屑的污染支持探頭5000W和...
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2018-417
光譜式測(cè)量為CCFL、LED背光LCD及OLED等平板顯示技術(shù)提供了zui高精度的亮度、色度測(cè)量。現(xiàn)有的光譜式測(cè)量的主要不足是需要很長(zhǎng)的測(cè)試時(shí)間。PhotoResearch的A-TAKT™系列光譜式輻射度計(jì)彌補(bǔ)了這一不足,實(shí)現(xiàn)了光譜式精度的實(shí)時(shí)產(chǎn)線測(cè)試。A-TAKT™系列包含三款——V-7HS、V-7WD和V-6AQL,針對(duì)FPD產(chǎn)線測(cè)試不同測(cè)試應(yīng)用。具有如下總的特點(diǎn):特點(diǎn)優(yōu)勢(shì)采用制冷型CCD探測(cè)器有效抑制暗噪聲及雜散光;可調(diào)取、使用測(cè)試對(duì)象的圖像,不...
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2018-417
直接和間接探測(cè)針對(duì)不同的x射線應(yīng)用,不管是影像,還是光譜,Andor都可以提供全面的CCD探測(cè)系統(tǒng)。根據(jù)應(yīng)用和能量不同,這些系統(tǒng)可以放置在真空內(nèi)使用,或者通過法蘭和真空腔相連,也可以是單獨(dú)使用。另外,如果您的應(yīng)用需要對(duì)x射線進(jìn)行間接探測(cè),Andor也可以提供各種光纖耦合的CCD相機(jī).Andorx射線探測(cè)方案有益于如下各種應(yīng)用:X射線/中子斷層掃描X射線光譜X射線顯微X射線光斑檢測(cè)X射線衍射X射線平板印刷術(shù)X射線地形學(xué)等離子體研究醫(yī)療影像湯姆森散射X射線可以大致可以分為幾個(gè)范圍...
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2018-413
THz成像技術(shù)是THz技術(shù)發(fā)展的重要方向之一,在國防、安檢、材料、生物和醫(yī)療領(lǐng)域都有著重大意義。目前THz成像技術(shù)主要分為:掃描成像和THz面陣探測(cè)器直接成像,但是這兩種方式都面臨著重大的技術(shù)挑戰(zhàn)。首先,THz掃面成像,這種方式多應(yīng)用在時(shí)域光譜領(lǐng)域中,掃面成像需要的時(shí)間較長(zhǎng),無法實(shí)時(shí)成像,且隨著空間分辨率的提高及掃描面積的加大,所需要的時(shí)間越長(zhǎng),使得這種方式的發(fā)展在很多應(yīng)用中受到限制,如國防、安檢、生物醫(yī)療等;另該方式產(chǎn)生的THz輻射較弱,相應(yīng)的穿透力較弱,且由于水對(duì)于THz...
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2018-413
X-射線熒光光譜:作為一種比較分析技術(shù),在較嚴(yán)格的條件下用一束X射線或低能光線照射樣品材料,致使樣品發(fā)射特征X射線。這些特征X射線的能量對(duì)應(yīng)于各特定元素,樣品中元素的濃度直接決定射線的強(qiáng)度。該發(fā)射特征X射線的過程稱為X射線熒光或XRF.X射線熒光光譜儀有兩種基本類型:波長(zhǎng)色散型(WD-XRF)和能量色散型(ED-XRF)一臺(tái)典型的XRF儀器的核心硬件包括X射線源與X射線探測(cè)器及多通道數(shù)字脈沖處理器。其中X射線源是提供激發(fā)樣品特征X射線的光源,X射線探測(cè)器檢測(cè)X射線光子的裝置,...
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