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更新時間:2026-07-28
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德國Xiton Photonics成立于2005年,是一家獨立的專業激光器制造商,總部位于萊茵蘭-普法爾茨州的凱澤斯勞滕。Xiton公司擁有高度潔凈的研發與生產環境,光學設計、晶體生長評估、超穩定機械加工、精密裝調等核心環節全部自主完成,公司專注于深紫外波段,用全固態倍頻技術替代傳統氣體激光器。IXION-193 SLM 是Xiton的明星產品,采用全固態路線,其核心技術是以單頻激光為種子源做放大,通過級聯非線性頻率轉換與和頻過程,最終將波長鎖定在193 nm,輸出MHz級極窄線寬、超長相干長度、光束質量的連續波SLM激光器,在先進半導體光刻研發和晶圓缺陷檢測中扮演著不可替代的角色。
IXION-193 SLM 產品基本架構為:
1064nm低噪聲種子源,種子源窄線寬,相位噪聲和強度噪聲極低,經放大后做5倍頻處理,另外由于種子源在一定范圍內波長可調諧,所以其5倍頻在一個較窄光譜范圍內也是波長可調諧的。
上述1064nm種子激光放大接駁OPO晶體,可獲得一個較寬光譜范圍可調諧的窄線寬激光。
最后將上述5倍頻激光和OPO激光做合頻處理,就會得到一個193nm波段,80MHz窄線寬,80GHz范圍可調諧的穩頻激光器。
從銷量而言,IXION-193 SLM的中心波長以193.368nm最為常見,可用做大功率193nm ArF準分子激光器的種子源,壓窄準分子激光器的線寬并提升其功率穩定度,用以提升193nm DUV深紫外光刻的制程精度與良品率;也可做為193nm DUV波段晶圓檢測的光源,將晶圓檢測的缺陷分辨率提升到5nm級別。

IXION-193 SLM激光器
IXION-193 SLM關鍵核心參數
型號 | IXION-193-SLM | IXION-193-SLM-50 | IXION-193-SLM-LC |
|---|---|---|---|
分類 | 標準款 | 更高功率款 | 更窄線寬款 |
平均功率 | 10 mW | 50 mW | 3 mW |
脈沖寬度 | 8-10 ns | 6-8 ns | 12-14 ns |
脈沖能量 | 1.6μJ | 8.3μJ | 0.5μJ |
重復頻率 | 6 kHz | 6 kHz | 6 kHz |
M2 | <1.4 | <1.4 | <1.4 |
光譜線寬 | <80 MHz | <100 MHz | <60 MHz |
相干長度 | >2m | >1.5m | >2.5m |
波長可調諧范圍 | >80 GHz ?10 pm | >80 GHz ?10 pm | >80 GHz ?10 pm |
技術優勢:
1. 相干性:
其光譜線寬小于80 MHz,是真正的超窄帶。而ArF準分子激光器的線寬通常在100–300 GHz,屬于寬帶多模。因此IXION-193 SLM 的相干長度超過2米。在實際光路中,兩束光即使經歷不同的路徑,光程差達到米級,依然能保持出色的干涉對比度。這意味著可以輕松實現超大角度離軸干涉,將193 nm波長的物理優勢發揮到極限。

2.高光束質量:

而IXION-193 SLM輸出的基橫模高斯光束(TEM00),M2約1.4。這樣的光束可以直接用于生成高質量的平面波前,干涉條紋對比度高且一致性出色,傳播特性可預測,便于做精確的光學設計和波前工程。因此凡是需要高相干檢測、干涉計量、長時間穩定頻率參考的場景,SLM激光器幾乎都是不可替代的。
3.系統架構與維護成本:
iXion-193 SLM是全固態密封設計,內部深紫外光路密封在惰性氣體環境中,用戶不需要更換任何氣體,也不用處理有毒物質,基本上屬于開機即用,長期運行穩定可靠,日常維護極少。另外DUV合頻非線性晶體采用步進電機可調控的選點裝置,結果是193nmSLM激光器的整機運行壽命超過萬小時。
典型應用場景
1. 高功率193nm ArF準分子激光器的種子源:
在半導體光刻制程中,IXION-193-SLM窄線寬、高穩定性的種子光注入到大功率準分子激光器中,能夠有效實現帶寬壓縮、改善空間模式質量并增強長期頻率穩定性,從而提升光刻制程的分辨率與良品率。從選型角度看,IXION-193-SLM-LC其線寬<60MHz適合做高功率193nm ArF準分子激光器的種子源。
2. 高分辨率光刻膠與下一代光刻材料的快速篩選
目前半導體研究中最急迫的需求之一即為開發高分辨率光刻膠,此處需要 193 nm 的相干光進行兩束/多束干涉曝光,以制備密集干涉條紋。iXion-193 SLM其線寬窄(<80 MHz),光譜純度高,能夠產生接近理論極限的高對比度干涉條紋,真實反映光刻膠性能。利用該激光器進行雙光束干涉光刻(IL),是評估光刻膠本征分辨率(Resolution)、線邊緣粗糙度(LER)和靈敏度的標準科研手段,能夠排除投影物鏡等系統像差的影響。IXION-193 SLM深紫外短波長,曝光過程平滑可控,極低的振幅噪聲讓曝光劑量能被非常精確地控制,這對研究光刻膠的本征分辨率和極限線寬至關重要。
3.半導體晶圓缺陷檢測
用于無圖形晶圓的暗場/明場散射檢測,以及有圖形晶圓的缺陷復檢。193 nm短波長可以探測亞10 nm量級的表面缺陷或顆粒,單縱模高相干性則允許進行干涉對比增強和相移測量,大幅提高信噪比。從選型角度看,IXION-193 SLM標準款或高功率款均為適合。
4.光譜計量:
IXION-193 SLM可以通過飽和吸收光譜等技術,用于校準真空紫外光譜儀、天體紫外光譜儀等設備。
總結
IXION-193 SLM代表了深紫外連續波單頻激光器的前沿水平。它將全固態、窄線寬、高相干性集于一身,把193 nm光源從笨重、寬帶的脈沖系統帶入了精密光子學工具的序列,在半導體檢測、干涉光刻、精密光譜等領域都是一款極其優秀的核心光源。
德國Xiton公司的IXION-193 SLM深紫外全固態激光器在半導體制程領域廣泛的應用于大功率準分子激光種子源,193nm晶圓檢測,高分辨率光刻膠研發,深紫外光譜儀波長校準等應用。德國Xiton公司攜手其全球明星代理公司先鋒泰坦科技建立國內授權服務點。
先鋒泰坦聚焦光電前沿,深耕行業多年攜手數百家國際光電企業,構建長期穩定合作;從光譜儀器,到全品類光電產品矩陣,專業覆蓋光譜相關產品、激光器產品、激光測量產品、太赫茲產品、光度與色度產品、光學元器件、探測器產品等核心領域以多元產品與優質服務,賦能光電產業發展。