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產品型號：Model 2010
更新時間：2026-07-22
廠商性質：代理商
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棱鏡耦合波導測試儀
Metricon 公司 的Model 2010 棱鏡耦合儀使用先進的光波導技術，對電介質及聚合物膜的膜厚和折射率/ 雙折射進行快速及準確的測量。對于許多薄膜及光波導用途，Model 2010 提供了比以橢圓光度法或分光光度法為基礎的傳統(tǒng)儀器更獨特的技術。
MODEL 2010 的優(yōu)勢
Model 2010 數(shù)據(jù)分析軟件是通用的，兼容Windows XP / Vista / Windows 7, 極大地提高了用戶友好的控制程序, 和新測量的功能，允許測量從常見到特殊的薄膜而不需依靠內部系數(shù)或菜單式校準曲線。
• 不必預先知曉厚度及折射率
• ±0.0005 常規(guī)折射率分辨率- 尤其在大批量生產時比其他技術更具優(yōu)勢( 可獲得更高折射率)
• 通用化- 沒有固定的薄膜/ 基底合并菜單
• 可測量雙膜結構中的單膜厚度及折射率
• 可進行體材料或基底材料的高精度折射率測量
• 快速測量薄膜或漫反射光波導參數(shù)(20s)
美國Metricon 公司生產了*一臺棱鏡耦合儀，開創(chuàng)了在薄膜、大面積材料、光波導等實際應用中的棱鏡耦合測量技術， 多年來已經有超過千套測試系統(tǒng)在多個大學，研究所和企業(yè)實際應用。
主要技術指標
• 折射率精度:±0.001( 甚至更高±.0002 to ±.0005，視樣品而定)
• 折射率分辨率:±.0001 to ±.0003( 甚至高于±.00005)
• 厚度精度:±(0.5％ + 5 nm)
• 厚度分辨率:±0.3％
• 折射率測量范圍:2.65 以下( 一些情況可達3.35 以下)
• 操作波長:632.8nm,1310nm,1550nm 以及其他可見光/ 近紅外光
• 允許的基底材料: 硅、砷化鎵、玻璃、石英、GGG、藍寶石、鋰酸鈮等
2010棱鏡耦合儀的主要特點
• 中/ 厚膜膜厚及折射率( 尤其是光波導)測量的*佳選擇
• 不需要預先知道膜的厚度
• 獨特的氣壓耦合方式, 不需要加耦合液
• 軟件:windows version 操作軟件
• 輸出: 計算機顯示和打印機輸出
薄膜類型和折射率 | 厚度和折射率一起測量 | 僅測量厚度 |
硅基上的二氧化硅 (n=1.46) | 0.48-150μm | 0.20-0.48μm |
硅基上的光刻膠 (n=1.63) | 0.42-150μm | 0.18-0.42μm |
二氧化硅上的光刻膠 (n=1.63) | 0.70-150μm | 0.30-0.70μm |
硅基上的聚酰亞胺 (n=1.72) | 0.38-150μm | 0.15-0.38μm |
二氧化硅上的聚酰亞胺 (n=1.72) | 0.50-150μm | 0.16-0.50μm |
硅基上的氮氧化硅 (n=1.80) | 0.35-150μm | 0.14-0.35μm |
二氧化硅上的氮氧化硅 (n=1.80) | 0.45-150μm | 0.13-0.45μm |
硅基上的氮化硅 (n=2.0) | 0.32-150μm | 0.12-0.32μm |
二氧化硅上的氮化硅 (n=2.0) | 0.30-150μm | 0.15-0.30μm |
測試原理
當光入射到棱鏡上, 隨著旋轉臺的旋轉, 入射角就隨之發(fā)生了變化, 在某一個入射角度, 光子就會經空氣狹縫進入薄膜傳輸出來, 因此探測器得到的光子能量就會降低, 形成凹陷, 這叫做泄漏模。*一個模的位置決定了薄膜的折射率, 而模間隔決定了薄膜的厚度。
棱鏡耦合儀和橢偏儀的區(qū)別
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